美国科技媒体:中国自研的芯片设备迎来新突破 中国企业正在测试一款全新的前端制造设备,该设备搭载了浸润式系统,可以制造14nm、7nm等制程工艺的芯片,这与ASML的浸润式DUV光刻机在技术上面如出一辙。 芯片 asml 光刻机 美国科技 美国科技媒体 2025-09-21 19:34 2