美国科技媒体：中国正在以10年低效期的代价去开发自主设备
随着美国制裁的一步步收缩，中国获得ASML先进EUV光刻机的希望渺茫，于是中国企业将目光放在了浸润式DUV光刻机上。中国企业正在尝试完成国产浸润式设备的开发，并且依赖于多重图案化技术去制造国产的先进芯片。
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美国科技媒体：中国自研的芯片设备迎来新突破，ASML高管在多年
朋友圈有人转发“国产28nm光刻机年底交货”，配图是蓝到失真的渲染图；群里立马有人接话，“别高兴太早，落后ASML两代呢”。
美国科技媒体：中国自研的芯片设备迎来新突破
中国企业正在测试一款全新的前端制造设备，该设备搭载了浸润式系统，可以制造14nm、7nm等制程工艺的芯片，这与ASML的浸润式DUV光刻机在技术上面如出一辙。